產(chǎn)品機型：37片機

GAN MOCVD機 外延片爐    BDS反應腔體

通過中心輻射流動與垂直噴淋流動相結(jié)合吸收行星反應腔體流層的優(yōu)點，而無需行星反應腔體所需的復雜運動

優(yōu)勢：避免復雜運動，設(shè)計上可擴展

GAN MOCVD機 外延片爐    氣流模式

準確實現(xiàn)反應氣體的瞬時切換在保持腔體流場不變的情況下，可實現(xiàn)反應氣源從連續(xù)到脈沖注入的切換

優(yōu)勢：氣流的流動方式、反應氣體濃度、組分及參雜等級一步柔性可控；滿足用戶不同膜層的界面的要求，納米級薄膜厚度精確可控

GAN MOCVD機 外延片爐   加熱爐體

采用多區(qū)電阻片紅外輻射加熱區(qū)域可以獨立控制，加熱片形狀經(jīng)過獨特設(shè)計，

優(yōu)勢：實現(xiàn)大面積溫度可控，獲得更廣范圍的加熱溫區(qū)

GAN MOCVD機 外延片爐   控制系統(tǒng)

采用網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)，實現(xiàn)傳感器與執(zhí)行器實時控制：根據(jù)不同外延工藝對實時性的敏感性進行針對性設(shè)計；提供工藝工程師熟悉的控制界面，指示清晰，操作簡便

優(yōu)勢：保證生產(chǎn)的重復性與穩(wěn)定性，方便用戶熟悉使用